产品说明
台式纳米颗粒沉积系统
该台式纳米颗粒沉积系统，专为正在研究纳米颗粒性质和应用的科学家或技术人员而设计。 该仪器可产生非团聚的超纯纳米颗粒涂层。
该系统的设计使用简单，通过清晰的样品引入门和简单的触摸屏即可轻松加载样品，从而简化系统操作。
紧凑型台式设计和简单的触摸屏操作使该系统非常适合任何研究纳米颗粒应用的实验室。
真空沉积工艺可生产出wu烃或其他污染物的超纯纳米颗粒，这通常困扰化学技术。 纳米颗粒涂层直接沉积在您的基材上，经过30分钟的典型循环时间后即可进行分析； wu需进一步的干燥或纯化步骤。
该系统可在真空中生成超纯和单分散的纳米颗粒，然后将其直接沉积到目标基质上。 NL50避免了使用溶液和粉末基纳米颗粒时面临的许多问题。
该系统可以在几分钟内将纳米颗粒沉积到任何固体基材上。zui常用材料的简单配方使研究人员能够将裸露的纳米粒子（例如Ag或Au）沉积到其基底上，
然后准备用所需的蛋白质或抗体直接进行功能化。 该系统利用一种称为终止气体聚集的技术在真空中生成纳米颗粒。
为什么选择该NL50纳米颗粒沉积系统
通过克合成的化学合成纳米颗粒已经问世，那么为什么要投资购买沉积真空相纳米颗粒的设备呢？该系统中产生的纳米粒子超纯且不含表面活性剂或配体，并且在沉积后即可立即进行功能化，从而wu需冗长而复杂的多步化学纯化工艺。纳米颗粒也是单分散的，因此避免了与结块有关的问题。实时控制沉积密度，可确保从单分散颗粒到3D多孔涂层的各种应用中可重复的结果。使用这种技术，纳米材料的切换也非常快捷。与化学合成开发需要花费数月的时间不同，目标材料可以在数分钟内更换，以沉积各种常见的金属或合金。直接沉积到基材上意味着浪费zui少，因为仅需按需制备纳米颗粒即可。
可在客户的样品上沉积一系列纯净的纳米颗粒和合金纳米颗粒。
沉积过程是在真空中进行的，以确保可控的wu污染过程。
我们提供对纳米颗粒尺寸和面积覆盖的出色控制。
可以优化纳米颗粒薄膜的孔隙率，以满足客户的需求。
我们还可以提供某些材料的一些标准演示样本。
由该纳米颗粒沉积系统产生的纳米粒子是通过磁控管溅射法生成的，使用的是少量的氩等离子体，以生成所需材料的原子。
然后，这些原子在非常短的时间内（<1μs）被热化并形成纳米颗粒。
纳米颗粒通过一个小孔射入沉积室并射到样品上
用户可以通过调节等离子体功率和氩气流量在2-20nm左右的范围内改变尺寸（取决于材料）。
超纯纳米颗粒
纳米颗粒沉积系统利用磁控溅射在真空中产生一束超纯纳米颗粒。 纳米粒子的特征是：
●超纯wu烃
●不结块
results一致且可重复的结果
●选择材料包括Au，Ag，Cu，Pt，Ir，Ni，Ti和Zr
●生成复合纳米颗粒，例如氮化物和氧化物
沉积控制
使用石英晶体监控器（QCM）进行实时沉积控制，可以对从亚单层覆盖到多孔3D结构的表面载荷进行精度且可重复的控制。 沉积时间通常为几分钟。 沉积速率范围为10-50ng / cm2s
灵活的基板加载
NL50专为各种基材类型而设计，直径大可达50mm。 由于在沉积室内不会产生热量，因此即使是易碎的基材也适用。 基材包括但不限于
●显微镜载玻片
●培养皿
●微孔板
●电ji
●膜
●塑料
易于使用
直观的用户界面易于使用，并允许抽空和沉积顺序的wanquan自动化。
●quan自动抽气和排气
common预加载的常见材料优化沉积设置
●用户可以控制沉积条件以改变纳米粒子的大小和沉积速率
using使用沉积重量或沉积时间选择沉积控制。
表面清洁和预处理
该系统提供对导电基材的可选原位等离子体清洁。
在真空中，等离子体清洁从基底上除去吸附的分子，以帮助沉积的纳米颗粒粘附并在沉积之前使基底表面功能化。
对于易碎的基材，只需在配方中取消选择等离子体清洁步骤。
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